WaferSense® APS——创新的无线Particle量测技术

Particle是影响面板行业制造良率的关键因素之一，良率的高低主要取决于工艺、制造设备和管控。人为的疏忽、机器的失常和错误的调整都会影响。使用APS sensor能够省略检测时间，帮助您快速找到影响良率的可能原因。

传统的Particle监测方法，是将采样探头安装在无尘室和设备内部固定的位置，检测附近区域的空气中Particle含量，通过数据图表、发送邮件的方式通知品质管控者无尘室的洁净度是否达标。但是无尘室空间的洁净等级高并不代表制程设备内部是洁净的，也不能代表Glass在传送时表面就不被Particle污染。

一.传统测量方式：

1. WaferSense APS跟随Glass一起在制程设备流转。

2. 利用无线蓝牙，将Particle数据实时传递和存储到电脑软体。

3. 结合AOI设备，在传输过程中就能及时发现Particle异常点。

4. 技术人员可对整个机台的运动轨迹进行标注，便于分析和查找不良。

   2.1

   CYBER APS 参数

   
   

2.2 Cyber人机交互界面

3.APS 的作用              

1. 可以提供实时动态测试，结合工艺流程进行检测

2. 可以深入机台内部检测

3. 可以发现生产过程中细微的变化

4. 提高工作效率

5. 节省机台的调整时间，提高PM&TPM效率

结合上述优势，最终可以帮助：

提高良率!!!!!!

如有相关需求欢迎咨询探讨。

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