会议回顾-卫利携《掩膜版制程中气体颗粒监测》精彩展示

2025-05-28 23:02

2025年5月28日第2届光掩模与光刻胶产业论坛在上海顺利举行。

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关于会议

此次会议将汇聚光掩模及光刻胶行业的领军企业、机构的技术和市场专家,探讨中国光掩模版产业的技术进展、市场机遇与挑战,以及产业前景展望。
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在会议期间,卫利国际科贸(上海)有限公司携《掩膜版制程中气体颗粒监测》报告进行精彩演示。

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精彩现场


卫利集团聚焦微污染管控和静电防护,结合行业中“光散射原理”、“凝结核原理”、“视觉/动态图像侦测”等测试原理和方法,深耕半导体产业中的颗粒和Precursor测试。
1.使用Reticle型侦测设备对掩膜版制程腔内颗粒,水平、震动、和对位等线上测试。
2. 便携式气体纳米颗粒计数器和收集器,对机台和腔体内环境以及小至4.5 nm的颗粒物进行快速定量测试,并将测试后的颗粒污染物进行收集,以便用于进一步的物质鉴定。



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